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   采用DMD的3D微型光成型機(jī)向“納米”級(jí)分辨率發(fā)展

 

  

 

      [投影之窗消息]  日前,JSR開始研究D-MEC三維光成型機(jī)的分辨率到數(shù)百nm級(jí),其于2004年開始銷售具有μm級(jí)分辨率的光成型機(jī),以開拓新應(yīng)用領(lǐng)域中的材料市場(chǎng)。盡管該裝置的原理與使用紫外線硬化樹脂的三維成型機(jī)相同,但由于加工分辨率為μm級(jí),因此可加工MEMS元件及微小裝置。
  

    為了提高分辨率,JSR考慮改變光學(xué)系統(tǒng)。微型成型機(jī)需要涂布紫外線硬化樹脂,使其變成數(shù)μm厚的薄層,以1.7μm的平面方向分辨率對(duì)該層進(jìn)行紫外光照射,便可形成任何形狀。反復(fù)操作該工序并重疊薄層,便能形成立體形狀。這時(shí),該公司的裝置可使用DMD(數(shù)字微鏡器件)芯片進(jìn)行紫外光照射。DMD芯片有1024×768個(gè)13.7μm見方的微鏡,可利用透鏡聚集其反射光。1.7μm的水平方向分解能取決于該透鏡的縮小率。用透鏡聚光時(shí),可相應(yīng)地提高分辨率。
  

 


 
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